紫外线灯UNL-5000

制造厂家：ORCMANUFACTURINGCO.,LTD产品名称：超高压汞灯（Super-hightpressuremercurylamp）型号:ONL-12001适用设备：FX-66S主要波长分布:365nm/405nm/436nm曝光设备功率：12KW灯管结构：由灯座，阴阳极，石英球体，稀有气体，液体汞等要素构成发光原理：灯管在高温，高压，多种特殊气体的环境下，电子和汞原子相互碰撞，发出多种波长的紫外线光。用途:液晶显示面板制作工厂，TFTArrayPhoto黄光部门曝光设备的光源.交货周期：30天.我们的紫外线灯可提供专业的售前咨询和售后服务，确保客户满意度和产品可靠性。紫外线灯UNL-5000

ORC紫外线照度计/光量计，型号： UV-351；

①測定範囲310～385nm（峰值355nm）②光量測定ｍJ/cm2（１）測定範囲０．１～１９９９９．０ｍJ/cm2（２）表示範囲１～１９９９９ｍJ/cm2（３）光量超出１９９９９ｍJ/cm2，４個小数点和単位（ｍJ/cm2）点灭（１）測定範囲０．１～１００mW/cm2（２）照度超出１００mW/cm2，４個小数点和单位（mW/cm2）会点灭。（３）设定计时测定通过背面开关和時間設定旋钮。１）计时時間１～１０秒２）機能照度、０．１mW/cm2以上的紫外线入力，设定时间计时动作开始、显示设定时间后照度。（４）自动保存峰值測定中的最大照度値。（HOLD点滅、ＤＡＴＡ点灯）④警報（１）温度本体内部温度高于60°时、４小数点和単位（℃）点灭。精度±３℃程度（２）电池电量低下，不能使用时，ＬＯＢＡＴ表示点灯。⑤受光素子图像二极管⑥使用温度範囲０～６０℃、无结露。⑦上記温度範囲，参考敝司ＵＶ標準精度：±１．５％以内⑧往复精度上記温度範囲内±１．５％以内⑨开机时间：电源开关ＯＮ1秒⑩電源按钮型锂電池（型式Ｍｎ０２－Ｌｉ３ＶＣＲ２４５０）⑪自动关机：照度0.1mW/㎝2以下約４分后電源OFF⑫本体寸法／重量約79（W）×160（D）×12（H）／約180g SEIMYUNG 紫外线灯高压汞灯能量无限，金属卤素灯照亮你的工业王国。

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的纳米级细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有高压汞灯，准分子激光器等。

i线步进式光刻机NSR-SF140适用于半导体器件的制造。性能：Resolution分辨率≦280nm，Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength)，Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield，曝光范围26mm×33mm，Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台，实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”，同时晶圆工作台可高速运转，从而大幅度降低了振动，并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路，有利于工作室内的散热。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯，对应型号：NLi-7500AL2。i线步进式光刻机NSR-SF130,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率5KW，型号：NLi-5001AL。

于2005年开始，使用尼康Nikon i-line步进式光刻机，型号：NSR-SF140,分辨率≤280nm。这是一种具有高吞吐量和极低拥有成本的扫描场i线步进器。

客户可以将NSR-SF140用于大规模生产下一代存储器和微处理器的非关键层。NSR-SF140可提高生产率并提高镜头性能。光源和透镜热管理得到了改进，在典型的生产应用中（即剂量=200mJ/cm2，300mm晶片上的76次曝光）。

光刻设备中光源为紫外线I线，波长为365nm，功率为7.5KW,对应型号为NLi-7500AL2,是日本ORC生产。

光源制作工厂给出寿命时间1500Hr，照度保证时间1500Hr的承诺。

使用步进式光刻机型号：NSR-SF140,NSR-SF150,NSR-SF155； .我们的工业用紫外线灯可根据客户需求定制，包括不同的尺寸、功率、波长等参数。ORC紫外线灯12KW电源

超高压汞灯、金属卤素灯，紫外线消毒，工业生产更安心。紫外线灯UNL-5000

工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。紫外线灯UNL-5000